目前多肽的合成技術已經很成熟，但是在多肽合成過程中有時會發生DG重排或者天冬氨酸酰胺化，導緻雜質峰離目标峰很貼近，而很難純化甚至無法分離。從而導緻産率降低，爲解決此類問題，今天介紹一種Asp的側鏈保護基，氰基亞硫酰基，簡稱CYS。此類方法可有效的減少DG重排和Asp酰胺化導緻的雜質，大大提高合成，純化效率。

後面關於(yú)DG重排和Asp酰胺化等類似副反應，統稱(chēng)爲D酰胺化。

一和二爲目前常用策略，三爲今天推薦(jiàn)的保護(hù)基策略。

簡稱OtBu,氨基酸縮寫Asp(OtBu),結構如下。

在一些特殊序列中，此類方法容易發(fā)生消旋和産(chǎn)生雜質，如下圖所示

如使用Fmoc-Asp(OtBu)-(Dmb)Gly-OH和Fmoc-Asp(OtBu)-(Hmb)Gly-OH

Dmb：二甲氧基苄基

Hmb：2-羟基-4-甲氧基-苄基

此類方案確(què)實可以減少D酰胺化的幾率，（通常添加HOBT或其它添加劑來進一步降低副反應幾率），不過偶聯效率很低，必須以二肽爲單(dān)元結構進行偶聯。且不能非常有效的阻止D酰胺化這一副反應。

這也是小編(biān)今天想要介紹(shào)的有效方案。

1，氰基亞硫酰基的形成

2，氰基亞硫酰基的去除

3，效果對比展示

4，實例展示(CSY保護基團運用於替度魯肽的合成)

氰基亞硫酰基保護基團的方案在一些實驗數據中，已體現出其消除D酰胺化副反應的強大作用（降低副反應至可忽略的範(fàn)圍），研究此領域的老師，可以嘗(cháng)試一下。